Nvidia bestätigte heute, dass man künftige 0,11 µm Grafikchips von TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Company) fertigen lassen wird. Gemeinsam will man die Fertigung noch weiter verfeinern und effizienter gestalten.
Das 0,11 Mikron Verfahren stellt im Grunde eine foto-lithografische Schrumpfung des aktuellen 0,13 Mikron Prozesses dar. Dieser Prozess wird sowohl im Highend- wie auch im Mittelkasse-Bereich eingesetzt werden wobei FSG (Fluorinated Silicate Glass) zur Isolation der einzelnen Transistoren verwendet wird. Obwohl konkrete Ergebnisse vom jeweiligen Chip-Design abhängen, wird die 11 nm Fertigung im Vergleich mit der 13 nm FSG basierten Technologie durch Transistoren-Verbesserungen für eine höhere Geschwindigkeit und geringere Stromaufnahme sorgen. Erste GPUs sollen jedoch erst im ersten Quartal 2005 in die Massenproduktion übergehen.
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